Third party verification report
国家级第三方权威机构独立验证
-
精准去除
核心数据：处理后表面铜含量从3.76%降至0.06%，清除率98.4%。铁含量与空白组持平，无新污染引入。
-
本体0损伤
核心数据：处理前后表面粗糙度变化量绝对值不高于0.015纳米，低于AFM仪器噪声极限。科学判定为零物理蚀刻损伤。
-
安全0残留
核心数据：XPS全谱扫描未发现任何新增元素峰，处理完成后无任何化学残留。
检测报告编号R2260512-01-01（AFM）、R2260512-01-02（XPS）。具体以双方联合验证为准。
Technical White Paper Download
深度技术资料下载
《芯净系列技术白皮书（简版）》
半导体晶圆原子级洁净清洗技术详解
《芯池系列技术白皮书（简版）》
新能源电池材料界面优化技术详解
《源凡材料技术总览》
物理种、功能源、源间隙三大特征详解
